Учебная и научная литература
>
Технические науки
>
Радиоэлектроника
>
Электроника
Каталог
:: Java книги
:: Авто
:: Астрология
:: Аудио книги
:: Биографии и Мемуары
:: В мире животных
:: Гуманитарные и общественные науки
:: Детские книги
:: Для взрослых
:: Для детей
:: Дом, дача
:: Журналы
:: Зарубежная литература
:: Знания и навыки
:: Издательские решения
:: Искусство
:: История
:: Компьютеры
:: Кулинария
:: Культура
:: Легкое чтение
:: Медицина и человек
:: Менеджмент
:: Наука и образование
:: Оружие
:: Программирование
:: Психология
:: Психология, мотивация
:: Публицистика и периодические издания
:: Разное
:: Религия
:: Родителям
:: Серьезное чтение
:: Спорт
:: Спорт, здоровье, красота
:: Справочники
:: Техника и конструкции
:: Учебная и научная литература
:Гуманитарные и общественные науки
:Естественные науки
:Технические науки
:Горное дело
:Пищевая промышленность
:Радиоэлектроника
:Автоматика и телемеханика
:Квантовая электроника
:Кибернетика
:Радиолокация
:Радиотехника
:Электрическая связь
:Электроакустика
:Электроника
:Строительство
:Технологии металлов
:Транспорт
:Химическая технология
:Энергетика
:: Фен-Шуй
:: Философия
:: Хобби, досуг
:: Художественная лит-ра
:: Эзотерика
:: Экономика и финансы
:: Энциклопедии
:: Юриспруденция и право
:: Языки
Новинки
Volkswagen Arteon c 2017 по 2021 год, руководство по ремонту и эксплуатации в электронном виде (на английском языке)
Handbook for Cleaning for Semiconductor Manufacturing. Fundamentals and Applications
Автор:
Reinhardt Karen A.
Издательство:
John Wiley & Sons Limited
Cтраниц:
1
Формат:
PDF
Размер:
0
ISBN:
9781118071731
Качество:
excellent
Язык:
Описание:
This comprehensive volume provides an in-depth discussion of the fundamentals of cleaning and surface conditioning of semiconductor applications such as high-k/metal gate cleaning, copper/low-k cleaning, high dose implant stripping, and silicon and SiGe passivation. The theory and fundamental physics associated with wet etching and wet cleaning is reviewed, plus the surface and colloidal aspects of wet processing. Formulation development practices and methodology are presented along with the applications for preventing copper corrosion, cleaning aluminum lines, and other sensitive layers. This is a must-have reference for any engineer or manager associated with using or supplying cleaning and contamination free technologies for semiconductor manufacturing. From the Reviews… «This handbook will be a valuable resource for many academic libraries. Many engineering librarians who work with a variety of programs (including, but not limited to Materials Engineering) should include this work in their collection. My recommendation is to add this work to any collection that serves a campus with a materials/manufacturing/electrical/computer engineering programs and campuses with departments of physics and/or chemistry with large graduate-level enrollment.» —Randy Wallace, Department Head, Discovery Park Library, University of North Texas
Скачать
Скачать легальную копию
Просмотров: 40
Пресс - релиз
string(4) "true" int(290)
К настоящему времени нет отзывов!
Вход
Если Вы забыли пароль, щелкните
здесь
Вы новый клиент?
Зарегистрируйтесь
Информация
Свяжитесь с нами
Как скачать и чем читать
Quiero dinero © 2007
